金融界6月7日音讯，有投入资金的人在互动渠道向中金环境发问：光刻机刻蚀是用化学或物理办法有挑选地从硅片外表去除不需要资料的进程。刻蚀的根本方针是在涂胶的硅片上正确地仿制掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包含杂乱的机械、电气和真空体系，一起配有自动化的刻蚀结尾检测和操控设备。刻蚀使用工况杂乱，清洁性差，充入特种气体品种十分之多，因而就需要特别处理的干泵和磁悬浮分子泵。请问贵司有干泵和磁悬浮分子泵的有关技术储备吗？谢谢！
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